低溫等離子處理機(jī)的清洗原理

低溫等離子處理機(jī)的等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進(jìn)分子、光子以及中性粒子組成，是物質(zhì)的第四態(tài)。

通常情況下，人們普遍認(rèn)為的物質(zhì)有三態(tài)：固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)。區(qū)分這三種狀態(tài)是靠物質(zhì)中所含能量的多少。氣態(tài)是物質(zhì)的三個(gè)狀態(tài)中最高的能量狀態(tài)。

給氣態(tài)物質(zhì)更多的能量，比如加熱，將會(huì)形成等離子體。當(dāng)?shù)竭_(dá)等離子狀態(tài)時(shí)，氣態(tài)分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結(jié)合，形成原來(lái)的氣體分子。

利用低溫等離子體處理技術(shù)在本世紀(jì)六十年代起就開(kāi)始應(yīng)用于化學(xué)合成、薄膜制備、表面處理和精細(xì)化工等領(lǐng)域，在大規(guī)?；虺笠?guī)模集成電路工藝干法化、低溫化方面，在近年來(lái)也開(kāi)發(fā)應(yīng)用了等離子體聚合、等離子體蝕刻、等離子體灰化及等離子體陽(yáng)極氧化等全干法工藝技術(shù)。等離子清洗技術(shù)也是工藝干法化的進(jìn)步成果之一。

與濕法清洗不同，等離子清洗的機(jī)理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來(lái)看，可能等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗。

目前就國(guó)內(nèi)來(lái)說(shuō)等離子清洗這一運(yùn)用還是相當(dāng)?shù)钠毡榈牧恕Ｌ貏e是近幾年，隨著等離子電視，等離子切割機(jī)等等，這些高科技產(chǎn)品的不斷衍生，等離子這個(gè)高科技技術(shù)已經(jīng)和我們的工業(yè)產(chǎn)品有著很密切的關(guān)系了。

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